摻雜(Doping)是增加半導體導電性的一種方法。就是在本質晶體內加入一些雜質原子而改變其電特性,所以摻雜半導體又被稱為外質半導體(extrinsic semiconductor),常見的外質半導體有p-type半導體及 n-type半導體。
將五價原子(如砷、磷、銻)加到本質矽晶體。五價原子被4個矽原子所包圍,將共有電子而形成晶體結構。由於每一個五價原子的價軌道上有五個價電子,所以會留下一個多餘的電子,此多餘電子就形成自由電子,可增加電子濃度。
將三價原子(如鋁、硼、鎵)加到本質矽晶體。三價原子被4個矽原子所包圍,由於三價原子的價軌道上只有三個價電子,但要和4個矽原子結合,因此會形成一個不完整的共價鍵,所以在價軌道上必定會產生一個電洞。
由於摻雜的物質(三價原子)會產生多餘的電洞給矽晶體,故稱此三價原子為受體(Acceptor)雜質,此摻雜的半導體就形成p-型(p-type)半導體。
n型半導體:多一個電子,所以參雜的元素要比原本的多一個價電子,例如原本是4A族的Si晶體,就要參雜5A的p型:有電洞所以參雜的元素要比原本的少一個價電子。如本題純矽晶體4A,要參雜少一個價電子的3A族(我都背p有一個圈圈,有洞,是電洞,所以n型就是多電子)(A)5A(B)3A(C)4A(D)6A元素週期表要背~
24. P 型半導體在形成過程中需在純矽晶體中少量摻雜下列何種元素? (A) A..-阿摩線上測驗