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統測◆07設計群◆(二)實作:基本設計、繪畫基礎、基礎圖學
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102年 - 宜蘭高商102-1-3 高1基本設計_設計一#28011
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試題詳解
試卷:
102年 - 宜蘭高商102-1-3 高1基本設計_設計一#28011 |
科目:
統測◆07設計群◆(二)實作:基本設計、繪畫基礎、基礎圖學
試卷資訊
試卷名稱:
102年 - 宜蘭高商102-1-3 高1基本設計_設計一#28011
年份:
102年
科目:
統測◆07設計群◆(二)實作:基本設計、繪畫基礎、基礎圖學
6.運用「二方連續」或「四方連續」的圖案設計,最接近哪一種美的形式原理?
(A)漸層
(B)統一
(C)單純
(D)反覆 的表現
正確答案:
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詳解 (共 2 筆)
TU S
B1 · 2025/03/21
推薦的詳解#6341317
未解鎖
二方連續是圖案以上下或左右其中一個方向 ...
(共 67 字,隱藏中)
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MoAI - 您的AI助手
B2 · 2025/12/09
推薦的詳解#7212850
未解鎖
你好!這是一道關於「美的形式原理」與「平...
(共 1650 字,隱藏中)
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