近期錯題測驗-公職◆牙體技術學(三)-阿摩線上測驗

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模式:近期錯題測驗
科目:公職◆牙體技術學(三)

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1(A).

2 關於使用臨時性閉塞義齒（interim obturator prosthesis）的建議，下列敘述何者錯誤？
(A)配戴的時間必須小於 2 個月
(B)沒有排牙的基底板或舊的假牙皆可
(C)通常需要假牙黏著劑輔助
(D)手術區域要修空以減輕重量

2(D).

3 下列何者不是配戴全口活動義齒直接引起的後遺症？
(A)黏膜反應
(B)改變味覺
(C)殘嵴吸收
(D)牙菌斑堆積

3(B).

4 下列何者與下顎開口運動以及下顎側方運動最無關？
(A)顎舌骨肌
(B)內翼狀肌
(C)外翼狀肌
(D)頦舌骨肌

4(B).

9 全口活動義齒的製作順序為：①建立正中關係咬合記錄 ②咬合蠟堤塑造合宜的牙弓外形 ③決定垂直咬合高度（VDO） ④設定下顎咬合蠟堤咬合平面的高度與位置 ⑤修飾上、下顎咬合蠟堤
(A)①②③④⑤
(B)②④③⑤①
(C)③④②⑤①
(D)④⑤②③①

5(B).

10 無牙殘嵴會隨著時間漸漸吸收，在後牙區從水平方向觀察其變化，下列敘述何者錯誤？
(A)上顎齒槽骨吸收逐漸向內側（腭側）
(B)下顎齒槽骨吸收逐漸向內側（舌側）
(C)下顎齒槽骨殘嵴牙弓逐漸擴大
(D)上下顎齒槽頂連線，會隨時間變化而逐漸傾斜

6(C).

11 為確保最終工作用模型邊緣再現以及牙技作業時能承受必要厚度，全口活動義齒製作圍盒的敘述，下列何者正確？
(A)印模邊緣的下方約 5 mm 圍蠟並熔融黏著，圍盒用蠟在印模最高部位約 8 mm 高度為止輕輕圍蠟
(B)印模邊緣的下方約 2 mm 圍蠟並熔融黏著，圍盒用蠟在印模最高部位約 8 mm 高度為止輕輕圍蠟
(C)印模邊緣的下方約 5 mm 圍蠟並熔融黏著，圍盒用蠟在印模最高部位約 13 mm 高度為止輕輕圍蠟
(D)印模邊緣的下方約 2 mm 圍蠟並熔融黏著，圍盒用蠟在印模最高部位約 13 mm 高度為止輕輕圍蠟

7(C).

12 在製作全口活動義齒個人印模牙托時，關於緩壓（relief）的敘述，下列何者錯誤？
(A)藉此可達到選擇性加壓的印模
(B)受到咬合力會痛的地方需緩壓
(C)下顎頰棚處需緩壓
(D)臼齒後墊需緩壓

8(A).

13 全口活動義齒工作模型之咬合堤的材料可使用下列何者？①石蠟 ②製模膠 ③樹脂 ④矽膠
(A)僅①②③
(B)僅②③④
(C)僅①③④
(D)①②③④

9(A).

15 下列有關全口活動義齒後牙部人工牙選擇需要考量以下那些因素？①頰舌寬度（buccolingual width） ②近遠心寬度（mesiodistal width） ③切緣齒頸徑（incisocervical dimension） ④外廓高隆（contour height） ⑤牙尖傾斜度（cuspal inclination）
(A)①②⑤
(B)①②④
(C)②③④
(D)③④⑤

10(B).

18 關於全口活動義齒包埋之前須確定的事項，下列何者錯誤？
(A)清除人工牙和蠟型義齒表面的殘餘蠟屑
(B)清除蠟型義齒基底邊緣與工作模型之間全部的蠟
(C)確認人工牙與包埋盒頂部之間有 3～6 mm 的距離
(D)確認工作模型的邊緣是否與包埋盒齊平

11(C).

19 以 Tench 齒型法將全口活動義齒的咬合器重置位的順序下列何者正確？①義齒研磨後放入病人口內試戴 ②取得上顎蠟型義齒之人工齒牙齒咬合面的 Tench 齒型 ③上顎義齒與 Tench 齒型對準適合後 ④取得咬頭嵌合位的咬合記錄
(A)①②③④
(B)②④①③
(C)②①④③
(D)②①③④

12(C).

27 關於活動局部義齒的組成要素的敘述，下列何者正確？
(A)牙鈎與鈎靠都是直接固位體
(B)牙鈎是直接固位體，但是鈎靠是連接體
(C)附連體裝置與牙鈎都是直接固位體
(D)鈎靠與附連體是直接固位體

13(C).

29 有關 Krol 所提出的改良式Ｉ型槓設計結構與理念，下列何者正確？①Ｉ型槓終端置於遠心倒凹區 ②使用遠心鄰接板 ③減少鄰接板與支柱牙之接觸 ④使用近心咬合鈎靠
(A)僅①③
(B)僅①②④
(C)僅②③④
(D)①②③④

14(C).

32 關於活動局部義齒鈎靠（rest）的設計，下列敘述何者錯誤？
(A)為了保證鈎靠之強度，支柱牙咬合面之邊緣嵴要磨去約 1.5 mm
(B)鈎靠在小臼齒與大臼齒邊緣嵴附近之寬度需有 2.5 mm 以上
(C)鈎靠與小連接體的相接角度要大於 90 度
(D)鈎靠的長度與寬度必須相同，且指向咬合面中心處

15(B).

33 牙鈎組件之設計必須適當包覆支柱牙周圍至少 180 度，此設計的原則及功能為何？
(A)避免支柱牙受牙鈎過大推力
(B)避免支柱牙位置之移動
(C)提供牙齒及組織之共同支撐
(D)避免固位牙鈎向齒頸部旋轉

16(B).

34 關於活動局部義齒金屬支架設計時，在缺牙區放置 tissue stop（如圖示）之最主要功能為何？

(A)防止軟組織沉降（tissue displacement）
(B)增加支架在轉移和義齒床製作（denture base processing）時穩定性
(C)提供拮抗力量防止支架口內試戴時旋轉
(D)口內試戴時判斷支架是否密合到底

17(B).

35 遠心端（distal free-end）缺牙活動局部義齒，其軟組織與自然齒在受到 4 牛頓咬合力時，兩者在變形或沉降差異為何？
(A)軟組織沉降變形 500 μm，自然齒牙周韌帶垂直沉降 20-25 μm
(B)軟組織沉降變形 500 μm，自然齒牙周韌帶垂直沉降 35-40 μm
(C)軟組織沉降變形 200 μm，自然齒牙周韌帶垂直沉降 20-25 μm
(D)軟組織沉降變形 200 μm，自然齒牙周韌帶垂直沉降 35-40 μm

18(B).

37 製作義齒支架前，正確定位診斷模型，以再現置放途徑（path of insertion）。關於此一牙技作業之流程，下列敘述何者錯誤？
(A)可利用三點定位標示主模型之定位
(B)不必要的倒凹區域透過蠟或其他材料進行緩壓
(C)使用析量器和碳筆確定牙齒和組織的外廓高隆線
(D)將牙醫師在診斷模型上的設計轉移到作業用主模型

19(C).

39 活動局部義齒製作時，關於封凹與緩壓的敘述，下列何者錯誤？
(A)複製模型製作前要在主模型上進行封凹與緩壓
(B)封凹與緩壓可以使支架順利配戴而不傷害組織
(C)齒槽殘嵴以及所有小連接體下方皆應進行緩壓
(D)所有與義齒設計相關的倒凹皆應進行封凹

20(D).

41 下列何種金屬支架材料需使用磷酸鹽系包埋材？①鈷鉻合金 ②第四類金合金 ③鈦金屬及其合金 ④鎳鉻合金
(A)①②
(B)①③
(C)③④
(D)②④

21(D).

42 關於活動局部義齒支架材料的敘述，下列何者錯誤？
(A)彈性義齒床不具有金屬構件而是使用熱塑性樹脂製作
(B)金屬義齒支架常使用鈷鉻合金或鈦合金製作
(C) Swing-Lock 活動局部義齒的支架不可使用黃金合金製作
(D)鍛造金屬線的抗張強度比鑄造合金低約 25%

22(C).

45 製作活動局部義齒時，倘若缺牙部位包括右下第一及第二小臼齒，該區域最合適的咬合堤寬度應該是多少 mm？
(A)3
(B)5
(C)7
(D) 10

23(D).

46 製作上顎游離端義齒咬合蠟堤時，最適當的高度是從上顎鈎狀切跡（hamular notch）算起多少 mm？
(A) 1.0-2.0
(B) 3.0-4.0
(C) 5.0-7.0
(D) 8.0-10.0

24(C).

48 依甘迺迪（Kennedy）分類，下列何種活動局部義齒較需於回診時維修？
(A)I類
(B) II 類
(C) III 類
(D) IV 類

25(C).

49 下顎遠心游離端缺牙之活動局部義齒製作時，若使用修正模型技術（altered cast technique），如何確認金屬支架正確置回切除殘嵴後的工作模型？
(A)金屬支架於工作用模型上穩定不動
(B)金屬支架之主連接體口底側內緣有密貼於工作模型上
(C)金屬支架之所有鈎靠皆密貼於工作模型鈎靠座上
(D)金屬支架之所有鄰接面板皆密貼於工作模型之引導面上