23.組織內屏蔽塊(internal shielding)用於電子射束放射治療時,下列有關電子回散射(electron backscatter)劑量的敘述何者正確?
(A)隨電子射線能量增加而遞增
(B)回散射所在介面的電子能量若小於10 MeV,在軟組織中10%的回散射相對劑量影響範圍約為1 cm
(C)隨組織內屏蔽塊所用材質之原子序增加而遞減
(D)使用鉛為屏蔽材料時,若回散射所在介面的電子能量為5 MeV,則介面處的回散射相對劑量約為56%
詳解 (共 4 筆)
未解鎖
回散射↑:電子能量↓介質Z↑FOV↓距離...
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(A) 隨電子射線能量增加而遞增 P28...
私人筆記 (共 2 筆)
未解鎖
放射治療物理學 第五版 P 288EBF...
未解鎖
(D)EBF=1+0.735 ...