全腦照射:
(1)最常在tumor meta的情況下使用
(2)通常以較高能量的射束(如:60Co及4MV光子)照射,以避免腦部兩側的劑量太低
(3)可藉由模擬定位儀設定較小的照野範圍後,再設計合宜的阻體(block)擋住眼、耳等重要部位
病人做全腦脊髓照射技術,首先須在模具室設定。放射師讓病人俯臥於檯
上,使其兩手靠攏身體,務必使頭與身體中線成一直線,令病人的臉部置
於面朝下的固定器上,將U型框架置於溫水中軟化後敷於病人頭上,壓製
成固定頭部的模具(cast),靠近頸部的地方須多留一點,以便於劃線。
57. 關於全腦放射治療,下列敘述何者正確? (A) 一般使用較低能量的光子..-阿摩線上測驗