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試題詳解

試卷：112年 - 112 台灣糖業股份有限公司_新進工員甄試_化工：化學工業概論#118816 | 科目：台糖◆化學工業概論

試卷資訊

試卷名稱：112年 - 112 台灣糖業股份有限公司_新進工員甄試_化工：化學工業概論#118816

年份：112年

科目：台糖◆化學工業概論

12. 化學氣相沉積法(CVD)是半導體製造程序中常用的技術之一，其功能為何？
(A)在晶圓表面鍍上一層薄層
(B)去除晶圓表面的雜質
(C)使晶圓表面平滑光亮
(D)將晶圓表面的一層薄層侵蝕掉
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