(2) 次防護屏蔽:防護散射輻射和滲露輻射
(3) 其他種類輻射屏蔽
K=Pxd2/WxUxT P=每周最大許可曝露率R/weekd=射源和屏蔽牆的距離W=工作負載mAxmin/week(一週使用X-ray的的總量)U=使用因數(無單位)>X光機有用射束朝主屏蔽方向的時間分率(主防護:1or1/4,次防護:1)T=佔用因數(無單位)>人員平均逗留屏蔽牆外區域的時間分率T=1(管制區域)T=1/4(休息室,停車場)T=1/16(洗手間,樓梯,自動電梯)影響主屏蔽厚度:K值減少,厚度變厚 電壓上升,厚度變厚 高原子序,厚度變薄
57.計算X光機主防護屏蔽時,下列何種條件下所需的屏蔽較薄? (A)較大的占用..-阿摩線上測驗