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電腦機械製圖科題庫 下載題庫

15. 下列有關微影製程之敘述，何者不正確？
(A)必須先製作光罩
(B)以刷子在晶圓上塗佈光阻劑
(C)光阻液要再經過烘烤除去光組液內之溶劑
(D)以紫外線曝光。

答案：登入後觀看
難度： 適中

最佳解!
	林亭妤高二上 (2018/05/10) 晶圓放在塗佈機上，滴一滴光阻液，塗佈機以... (內容隱藏中) 查看隱藏文字

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