17. 氫氟酸(HF)溶液為半導體製造業使用的蝕刻液，其廢水排放前加入鹼液中和後，可再加入下列哪一種物質去除廢水中的氟離子？
(A)NaCl
(B) AgCl
(C) CaCl₂
(D) FeCl₃
(E) NH₄Cl

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