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試題詳解

試卷:111年 - 111 3D列印積層製造工程師能力鑑定_初級:3D列印概論#114359 | 科目:iPAS◆3D列印概論◆初級

試卷資訊

試卷名稱:111年 - 111 3D列印積層製造工程師能力鑑定_初級:3D列印概論#114359

年份:111年

科目:iPAS◆3D列印概論◆初級

23.下列 3D 列印在後處理使用氫氧化納溶液應注意事項,下列何者有誤?
(A)應在抽風櫃內進行;
(B)應穿戴乳膠手套;
(C)配戴護目鏡;
(D)配戴醫療 口罩。
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詳解 (共 1 筆)

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未解鎖
題目解析 本題考察的是在使用氫氧化鈉(...
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