試題詳解

28 關於全瓷冠支架（all ceramics frame）燒瓷前的噴砂（sand blast）處理，下列何者正確？
(A)用粒徑 125μm、5 氣壓、噴嘴口距表面 10 mm，進行邊緣的噴砂
(B)用粒徑 25μm、4 氣壓、噴嘴口距表面 5 mm，進行邊緣的噴砂
(C)用粒徑 25μm、4 氣壓、噴嘴口距表面 3 mm，進行邊緣極細緣端部分的噴砂
(D)用粒徑 50μm、3 氣壓、噴嘴口距表面 5 mm，進行邊緣極細緣端部分的噴砂