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公職◆牙體技術學(二)
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100年 - 100 相當專技普考_牙體技術生:牙體技術學(二)(包括固定義齒技術學、活動義齒技術學及牙科矯正技術學科目)#24352
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試題詳解
試卷:
100年 - 100 相當專技普考_牙體技術生:牙體技術學(二)(包括固定義齒技術學、活動義齒技術學及牙科矯正技術學科目)#24352 |
科目:
公職◆牙體技術學(二)
試卷資訊
試卷名稱:
100年 - 100 相當專技普考_牙體技術生:牙體技術學(二)(包括固定義齒技術學、活動義齒技術學及牙科矯正技術學科目)#24352
年份:
100年
科目:
公職◆牙體技術學(二)
30 有關活動全口義齒病人殘嵴(residual ridge)之經常性變化,下列何者正確?
(A)上顎殘嵴弓變大,下顎殘嵴弓變小
(B)上顎殘嵴弓變小,下顎殘嵴弓變大
(C)上顎唇頰側的齒槽骨壁的吸收比舌側的齒槽骨壁的吸收較小
(D)下顎唇頰側的齒槽骨壁的吸收比舌側的齒槽骨壁的吸收較大
正確答案:
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