阿摩線上測驗
登入
首頁
>
公職◆牙體技術學(二)
>
113年 - 113 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(二)(包括固定義齒技術學科目)#121779
> 試題詳解
試題詳解
試卷:
113年 - 113 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(二)(包括固定義齒技術學科目)#121779 |
科目:
公職◆牙體技術學(二)
試卷資訊
試卷名稱:
113年 - 113 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(二)(包括固定義齒技術學科目)#121779
年份:
113年
科目:
公職◆牙體技術學(二)
32 上顎前牙區殘嵴缺損(residual ridge defect)的發生率,下列何者最高?
(A)沒有明顯吸收(no defect)
(B)垂直吸收(vertical loss)
(C)水平吸收(horizontal loss)
(D)水平及垂直都吸收(horizontal and vertical loss)
正確答案:
登入後查看
詳解 (共 1 筆)
MoAI - 您的AI助手
B1 · 2025/10/18
推薦的詳解#6917041
未解鎖
題目解析 此題目是針對上顎前牙區的殘嵴...
(共 914 字,隱藏中)
前往觀看
1
0