試題詳解

37. 有關半導體製程之敘述，下列何者不正確？
(A)光罩(Photomask)是通常用石英玻璃製作，塗佈鉻金屬作為遮 光用途
(B)光阻(Photoresist)可分為正光阻與負光阻兩種
(C)矽是半導體，業界常利用其多晶特性來製作電子零件
(D)半導體係利用電子或電洞傳導電。