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試題詳解

試卷:114年 - 114-1 專技高考_牙醫師(一):牙醫學(二)(包括口腔病理學、牙科材料學、口腔微生物學、牙科藥理學等科目及其臨床相關知識)#125096 | 科目:牙醫學(二)(包括口腔病理學、牙科材料學、口腔微生物學、牙科藥理學等科目及其臨床相關知識)

試卷資訊

試卷名稱:114年 - 114-1 專技高考_牙醫師(一):牙醫學(二)(包括口腔病理學、牙科材料學、口腔微生物學、牙科藥理學等科目及其臨床相關知識)#125096

年份:114年

科目:牙醫學(二)(包括口腔病理學、牙科材料學、口腔微生物學、牙科藥理學等科目及其臨床相關知識)

40.關於義齒基底樹脂的過敏或毒性說明,下列敘述何者錯誤?
(A)過敏反應通常由殘餘單體(residual monomer)所造成
(B)可以由浸泡水中達17小時來減少殘餘單體(residual monomer)
(C)殘餘單體(residual monomer)在血液中的半衰期約20~40小時
(D)操作者的接觸性皮膚炎也是對基底樹脂的一種過敏反應

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私人筆記 (共 1 筆)

私人筆記#6903832
未解鎖
於義齒基底樹脂的過敏或毒性說明,下列敘述...



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