42 有關半導體光學微影製程，用到的材料有晶圓、光罩、光阻、顯影劑，對此材料的說明下列何者不正確？ (A) 矽是用來製造晶圓的主要原材料。 (B) 光罩是是一片透明的石英玻璃，其主要用途在於將積體電路之各種電路設計圖形轉化為大量生產所需的介面模具 (C) 光阻劑由樹脂、光敏感劑、溶劑和添加劑等組成，分為正光阻劑和負光阻劑，正型光阻劑經過曝光後，受到光照的部分將在顯影時留下，未受到曝光部分的圖案溶解 (D) 顯影劑是將易溶的區域溶解洗去達成顯影目的，顯影液通常為鹼性水溶液。