試題詳解

42 有關半導體光學微影製程，用到的材料有晶圓、光罩、光阻、顯 影劑，對此材料的說明下列何者不正確？
(A) 矽是用來製造晶圓的主要原材料。
(B) 光罩是是一片透明的石英玻璃，其主要用途在於將積體電路 之各種電路設計圖形轉化為大量生產所需的介面模具
(C) 光阻劑由樹脂、光敏感劑、溶劑和添加劑等組成，分為正光阻 劑和負光阻劑，正型光阻劑經過曝光後，受到光照的部分將 在顯影時留下，未受到曝光部分的圖案溶解
(D) 顯影劑是將易溶的區域溶解洗去達成顯影目的，顯影液通常 為鹼性水溶液。