5 下列關於全瓷冠支架（all ceramic frame）燒瓷前處理之敘述，何者錯誤？
(A)燒瓷前噴砂處理使用之氧化鋁粒徑為 125 μm
(B)燒瓷前的熱處理溫度約為 1000℃
(C)燒瓷前噴砂處理時，噴嘴口距表面約 1 mm 進行邊緣極細的緣端部分噴砂
(D)燒瓷前的熱處理時間約需 5 分鐘

答案：登入後查看
統計： A(48), B(20), C(102), D(8), E(0) #892226

詳解 (共 3 筆)

#6377331
 (C)燒瓷前噴砂處理時，噴嘴口距表面約...
(共 60 字，隱藏中）
前往觀看
4
0
#7198401
這是一道關於牙體技術學中，全瓷冠（All...
(共 1985 字，隱藏中）
前往觀看
0
0
#7198408
你好！這是一道關於牙體技術學中，全瓷冠製...
(共 2119 字，隱藏中）
前往觀看
0
0

私人筆記 (共 2 筆)

私人筆記#2414728
未解鎖
全瓷冠支架燒瓷前的噴砂總共有三種型式: ...
(共 134 字，隱藏中）
前往觀看
4
0
私人筆記#5105943
未解鎖
答案(C)燒瓷前噴砂處理時，要距離噴嘴口...
(共 40 字，隱藏中）
前往觀看
0
0