試題詳解

試卷：102年 - 102-1 專技普考_牙體技術生：牙體技術學(二)（包括固定義齒技術學、活動義齒技術學及牙科矯正技術學科目）#24346 | 科目：公職◆牙體技術學(二)

試卷資訊

試卷名稱：102年 - 102-1 專技普考_牙體技術生：牙體技術學(二)（包括固定義齒技術學、活動義齒技術學及牙科矯正技術學科目）#24346

年份：102年

科目：公職◆牙體技術學(二)

51 有關全口活動義齒個人牙托（custom tray）外型線之敘述，下列何者正確？
(A)以解剖學印模法進行印模時，應比義齒基底外形線約短 2~3 mm
(B)以機能性印模法進行印模時，應與義齒基底外形線一致
(C)下顎的臼齒後墊（retromolar pad）部位要比義齒基底外形線稍微縮短 2~3 mm
(D)上顎的腭後緣部位要比義齒基底外形線稍微加長

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