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試題詳解

試卷：113年 - 113 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#121780 | 科目：公職◆牙體技術學(三)

試卷資訊

試卷名稱：113年 - 113 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#121780

年份：113年

科目：公職◆牙體技術學(三)

9 殘嵴未嚴重吸收時，有關全口活動義齒咬合蠟堤（wax rim）之敘述，下列何者錯誤？
(A)上顎前牙部分約 22 mm
(B)下顎前牙部分約 20 mm
(C)上顎後牙部分約 18 mm
(D)下顎後牙部分是參考臼齒後墊（retromolar pad）的位置
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