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39 標記全口活動義齒個人模托（custom tray）之外形線時，下列敘述何者錯誤？
(A)以解剖學印模法進行印模時，應與義齒基底外形線一致
(B)以機能性印模法進行印模時，應比義齒基底外形線約短 2-3 毫米
(C)上顎的腭後緣部位要製作後障（post dam），應比義齒基底外形線稍微加長
(D)下顎的臼齒後墊（retromolar pad）部位要進行緩壓（relief），應比義齒基底外形線稍微縮短

公職◆牙體技術學(三)- 100 年 - 100 相當專技高考_牙體技術師：牙體技術學(三)（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#24375

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【站僕】摩檸Morning：有沒有達人來解釋一下?

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