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高考三級◆反應工程及單元操作
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113年 - 113 高等考試_三級_化學工程:反應工程及單元操作#121523
> 申論題
題組內容
三、某非恆溫反應器溫度操作如圖二所示,T
01
, T
02
,…, T
06
為反應器入口溫度。(每小題 5 分,共 15 分)
(一)寫出反應器入口溫度操作在那幾個溫度時,會有多重穩態(multiple steady states)發生。
相關申論題
(二)操作在那些反應器入口溫度下有存在不穩定之穩態溫度值,並說明對應圖中那些點。
#517822
(三)若在黑點 8 穩態溫度(Ts8)發生±5%改變,指出反應器最後穩態溫度為何?
#517823
(一)假設層流(laminar)邊界層區內速度分布為, ,試推導出在 x = L 位置的邊界層厚度(δ)關係式。(10 分)
#517824
(二)若紊流(turbulent)邊界層區拖曳係數(drag coefficient, CD)表示成 為在 x = L 位置的 Reynolds number,試寫出紊流邊界層區內可能速度分布。(5 分)
#517825
(一)定義絕緣體臨界半徑,並試推導出。(5 分)
#517826
(二)假設電纜線長 1 m,半徑 1 mm,其金屬面溫度為 T1 = 400 K 且 k = 385 W/m.K, 絕緣體 k = 0.02 W/m.K。若外界氣溫 T0=300 K 且 h0 = 20 W/m2.K,增加絕緣體達多少厚度時會低於電纜線未覆蓋絕緣體的熱損失量?(10 分)
#517827
六、圖五描述磷摻雜矽晶圓穩態擴散過程。已知磷初始濃度為零,表層濃度為 2.5✕1020 atoms/cm3 (CAs),及磷在矽晶圓內擴散係數 6.5✕10-13 cm2/s,估算需多久時間後在離表面位置 1.76 微米的磷濃度為表層濃度 1%。 提示誤差函數 erf(1.8) = 0.989 及 erf(1.9) = 0.992。(10 分)
#517828
(一)依圖所示寫出對應質量守恆式。(5 分)
#517829
(二)已知萃取層 yA = 0.04, yC = 0.94,萃餘層 xA = 0.12, xC = 0.02,若出口端量為 100 kg 且 xAM = 0.1,求 V(kg)與 L(kg)值?(5 分)
#517830
1.此商品為從 A 代工廠生產且為不良品的機率為何?(4 分)
#517831
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