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輻射應用及其防護
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111年 - 111 高等考試_三級_輻射安全:輻射應用及其防護#109435
> 申論題
題組內容
五、在醫用 X 光機的屏蔽設計中:
(一)請說明使用因數(use factor, U)、占用因數(occupancy factor, T)與工 作負載(workload, W)。(15 分)
相關申論題
一、放射性同位素常被作為示蹤劑,請詳細說明 產生方式、反應式與其特性。(20 分)
#468639
(一)請詳述質子與物質作用的種類。(5 分)
#468640
(二)相較於高能光子治療,質子治療的優勢為何?(5 分)
#468641
(三)請說明質子治療設施所需的輻射防護考量。(10 分)
#468642
三、在非破壞檢驗中,放射攝影術可以檢測器材內部的缺陷與結構,請說明 加馬放射攝影術相較於 X 射線攝影術的優點與缺點。 (20 分)
#468643
(一)飲用水中總貝他與氚的濃度限值為何?何時需要進行氚的濃度分析? (15 分)
#468644
(二)請詳述總貝他與氚的濃度應如何進行量測。(5 分)
#468645
(二)請說明 NCRP-147 號報告中所建議的管制區與非管制區的最大許可曝 露率(allowable air kerma rate, P)為多少 mGy/wk?(5 分)
#468647
(三)試舉出二例說明放射性同位素在工業上的應用?(10分)
#492809
(二)一般選擇同位素應用在水文學,需考慮那些因素?(5分)
#492808
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