申論題

五、IC 晶圓廠所排放含有毒物質的廢氣可利用填充吸收塔處理，以避免空氣的污染。今有一股含有 95 莫耳百分比（mole%）空氣與 5 莫耳百分比硫 化氫（H₂S）氣體，自吸收塔底部（直徑 50 公分的圓柱形填充塔）進入。塔頂的噴嘴將某溶劑均勻分布至填料上，以吸收硫化氫。硫化氫被溶劑吸收後，含硫化氫的溶劑由塔底排出，而被處理後的氣體則由塔頂排出。已知進入塔內的廢氣中有 90%的 H₂S 被溶劑吸收。若氣體進入塔底的流量為 50 kmole/h，進入口溶劑流量為 90 kmole/h，請計算或說明：

(三)在填充塔的吸收操作中，說明何謂負載（loading）現象。（5 分）