題組內容

一、氫氧化四甲基銨（tetramethylammonium hydroxide, TMAH）是半導體或 者光電產業製程所用顯影劑中常見的成分。

(二)對於職場暴露到氫氧化四甲基銨的勞工，請說明應採取的急救措施。