題組內容

五、說明物理氣相沉積（physical vapor deposition, PVD）的三種基本方法：

⑷應用及產品特性（2 分）

詳解 (共 1 筆)

Wu Yungda
Wu Yungda
詳解 #2531467
2017/12/14
物理氣相蒸鍍主要有三種製程：－蒸鍍－離子...
(共 66 字，隱藏中）
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