三、請詳細說明半導體元件製作中蝕刻之定義與蝕刻製程中乾蝕刻及濕蝕刻使用之方法或方式。（10 分）

七、一蒸餾塔每小時可分離 10000 lb 50%苯及 50%甲苯的混合物。若由塔頂冷凝器所回收的產物含有 95%苯，而由塔底回收的含有 96%的甲苯。蒸汽由塔頂進入冷凝器的速率為每小時 8000 lb。部分產物回到塔內作回流之用，其餘的由他處抽取使用。若塔頂回流的組成（V）與所抽取的產物（D）和回流（R）之組成皆相等，試求出回流量與產物的抽取量之比為何？（20 分）