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技師◆風險危害評估
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102年 - 102年專門職業及技術人員高等建築師、技師、第二次食品技師暨普通不動產經紀人、記帳士考高等_工業安全技師#25844
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申論題
試卷：102年 - 102年專門職業及技術人員高等建築師、技師、第二次食品技師暨普通不動產經紀人、記帳士考高等_工業安全技師#25844
科目：技師◆風險危害評估
年份：102年
排序：0
申論題資訊
試卷：
102年 - 102年專門職業及技術人員高等建築師、技師、第二次食品技師暨普通不動產經紀人、記帳士考高等_工業安全技師#25844
科目：
技師◆風險危害評估
年份：
102年
排序：
0
申論題內容
二、國內半導體光電產業執行初步危害分析時，常採用半導體機台相對危害等級分析。 針對供應半導體光電產業於清洗和濕式蝕刻製程所使用的過氧化氫（H
2
O
2
）的 H
2
O
2
供應系統，利用半導體機台相對危害等級分析所得到的結果不會屬於高度危害， 可以不需進行進一步的製程安全評估。而 H
2
O
2
為國內危險性工作場所審查暨檢查 辦法所定義的危險物，利用半導體機台相對危害等級分析所得到的結果與法規精神 相矛盾。試從半導體機台相對危害等級分析方法考慮的因子說明其原因。（25 分）
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