四、請簡述半導體製造業廢溶劑性質及可能之處理方法。（20 分）

五、某廢棄物樣品經分析後知：水分、灰分及可燃分分別占 52、15 及 33%，且可燃分中 C, H, O, N, S, Cl 濕基百分比分別為 18, 2.2, 11.4, 0.8, 0.4, 0.2 %，請計算焚化處理所需之理論空氣量（以 kg 空氣/kg 廢棄物表示）。設空氣中 N2 與 O2 莫耳比為 0.79：0.21， C, H, O, N, S, Cl 原子量分別為 12, 1, 16, 14, 32, 35.5。（20 分）