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光學導論
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96年 - 96 專利商標審查特種考試_三等_光電工程：光學#49838
> 申論題
六、⑴說明何謂繞射極限（diffraction limit）之光學系統。（5 分）
相關申論題
⑵在一個繞射極限的雷射光學聚焦系統中，若欲將聚焦點縮小成原來的一半，有何 方式可做到？（8 分）
#175755
二、⑴簡釋何謂二元搜尋樹（Binary search tree）。
#175757
⑵如果依序將 52, 20, 60, 30, 16, 55, 72, 36, 39, 66 等數字加入成為二元搜尋樹，寫出 最後所得的二元搜尋樹。 （20 分）
#175758
⑴遞迴（Recursive）技術。
#175759
⑵反覆（Iterative）技術。 備註：n! = n*(n-1)*(n-2)*...*2*1
#175760
四、寫出並說明 ANSI/SPARC 對資料庫所建構的三階結構（Three levels of the architecture）。 （20 分）
#175761
⑴指出該定義有一不合法的邊線並說明原因。
#175762
⑵剔除該不合法的邊線後，依節點編號次序編製，寫出該無向圖的鄰接矩陣 （Adjacency matrix）。
#175763
⑶寫出其中任兩個不同的跨距樹（Spanning tree）。
#175764
⑴將 1.50 g 的苯甲酸（C6H5COOH, 式量 = 122 g/mol）溶解於水中，溶液之總體積 為 250 mL，求苯甲酸溶液之莫耳濃度。（6 分）
#175765
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