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101年 - 101 專利商標審查特種考試_三等_一般化工:高分子化學#44810
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申論題
試卷:101年 - 101 專利商標審查特種考試_三等_一般化工:高分子化學#44810
科目:高分子化學
年份:101年
排序:0
申論題資訊
試卷:
101年 - 101 專利商標審查特種考試_三等_一般化工:高分子化學#44810
科目:
高分子化學
年份:
101年
排序:
0
題組內容
三、承第二題,聚苯乙烯(PS)單分布可由陰離子聚合(anionic polymerization)製備, 請回答下列問題:
申論題內容
⑶若 butadiene 經由陰離子聚合形成 poly(styrene-butadience-styrene)三團聯共聚物 (triblock copolymer),起始劑與 butadiene 單體要形成何結構?(5 分)