阿摩線上測驗
登入
首頁
> 最新資料
最新資料
瀏覽最新的試卷、試題和詳解,掌握最新考試資訊
最新科目
技檢◆變壓器裝修-乙級
企業資源規劃(ERP)
企業電子化策略規劃(BSP)
最新試卷
115年 - 115-2 專技普考_驗光生:眼鏡光學概要#142833(50題)
115年 - 115-2 專技高考_臨床心理師:臨床心理學總論(二)(包括心理衡鑑、心理治療)#142832(44題)
115年 - 115-2 專技高考_諮商心理師:諮商與心理學基礎#142831(43題)
115年 - 115 專技高考_諮商心理師:諮商與心理治療實務與專業倫理#142830(43題)
115年 - 115-2 專技高考_諮商心理師:心理健康與變態心理學#142829(42題)
115年 - 115-2 專技高考_臨床心理師:臨床心理學總論(一)(包括偏差行為的定義與描述、偏差行為的成因)#142828(45題)
115年 - 115-2 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(四)(包括牙科矯正技術學、兒童牙科技術學及牙技法規與倫理學科目)#142827(50題)
115年 - 115 專技高考_諮商心理師:個案評估與心理衡鑑#142826(43題)
115年 - 115 專技高考_法醫師:法醫法規、倫理與公共衛生#142825(4題)
115年 - 115-2 專技高考_牙體技術師:牙體技術學 (三) (包括全口活動義齒技術學 、 活動局部義齒技術學科目)#142824(50題)
最新試題
7. Which of the following trans complexes would you expect to react most rapidly with CO? (3%)(A) Cr(CO)4(PPh3)2 (B) Cr(CO)4(PPh3)(PBu3) (Bu = n-butyl)(C) Cr(CO)4(PPh3)[P(OMe)3] (D) Cr(CO)4(PPh3)[P(OPh)3
6. Which of the following complexes have18-electron valence configurations? (3%)(A) Ir(CO)Cl(PPh3)2 (B) RhCl(PPh3)3 (C) [Ni(CN)4]2- (D) [V(CO)7]+
5. What is the ground term for the configuration of d8 (Oh symmetry) (3%)(A) 3F4 (B) 5D0 (C) 2T2g (D)2Eg
最新申論題
5. Find the solution of the following equation: (20%)Uxy+2Ux=X , satisfying contion U(0,y)=0, Ux(x,0)=X2
(b) (10%)
(a) (10%)
最新課程
徐喬-經濟學(資料太多優化中)
講師:
【站僕】摩檸Morning.
王立杰-幼稚教育考試精粹
講師:
【站僕】摩檸Morning.
陳萱-公民
講師:
【站僕】摩檸Morning.
最新主題筆記
無戶籍國民申請定居的要件
課程:
徐喬-經濟學(資料太多優化中)
章節:
Ch19.國民所得
無戶籍國民申請居留辦法
課程:
徐喬-經濟學(資料太多優化中)
章節:
Ch19.國民所得
國民生產總值
課程:
徐喬-經濟學(資料太多優化中)
章節:
Ch19.國民所得
最新討論
15. To tell the truth ________right. (A) were (B) done (C) is (D) are
16. The red car is ________, not yours. (A) bright (B) old (C) big (D) mine
17. John looks taller________ Peter. (A) than (B) under (C) off (D) between
1. 已知甲乙兩農產品為替代品且產季相同,以下哪一種情形會使甲產品的市場交易價格下降? (A)甲產品供給增加 (B)消費者所得增加 (C)乙產品價格增加 (D)乙產品需求增加
複選題29.某直轄市交通警察大隊收受所轄直屬分隊送交之違反道路交通管理事件後,應做哪些處置? (A)移送違反道路交通管理事件,應設簿登記或輸入電腦資料檔案,以備查考 (B)應審查該事件填記內容是否符合規定、附件是否齊全 (C)發現不符規定或附件欠缺者,協調補正後再行移送處罰機關 (D)發現內容填記錯誤者,應即日通知被通知人更正 (E)發現內容填記錯誤者,距移送處罰機關之期限未達 3 日之情況急迫時,得經處罰機關核准 後逕為更正
(四)根據歷史數據顯示,該極紫外光曝光機在對每片晶圓進行曝光時,特 定關鍵區域「無微粒缺陷」 (即完全達標合格)的機率為 0.3,且每片 晶圓的檢測結果彼此相互獨立。若該區域出現微粒缺陷,則視為一次 「出錯或失敗」 。工程師為了進行設備耐受度測試,設定曝光機必須直 到累積發生第 2 次「無微粒缺陷」 (合格)時才停止測試。令隨機變數 W 表示在此期間該曝光機所累積的「出錯(失敗)次數」 。請寫出 W 的機率密度函數。