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試卷測驗 - 112 年 - 112-2 初級電路板製程工程師能力鑑定_第二科:電路板製造概論#119597
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1(B).

1. 一般多層電路板使用最廣泛的樹脂系統,下列何者正確?
(A)酚醛樹脂(Phenolic);
(B)環氧樹脂(Epoxy);
(C)聚亞醯胺樹脂(Polyimide);
(D)B 一三氮樹脂(Bismaleimide Triazine;BT)。


2(B).

2. 在壓合製程中針對壓合參數的控制,其中溫度的控制大致可分為升溫段、恆溫 段、降溫段,其中恆溫段的目的為何?
(A)適當的控制流膠;
(B)提供樹脂硬化所需的能量及時間;
(C)降低內應力;
(D)減少板彎板翹。


3(D).

3. 一般銅箔厚度是以英制的盎司(oz)為計量單位,應使用下列何種單位面積計 算?
(A)每平方公分的重量;
(B)每平方公尺的重量;
(C)每平方英吋的重量;
(D)每 平方英呎的重量。


4(A).

4. 玻璃的等級可分為 A 級、C 級、E 級、S 級 4 種。在電路板中使用 E 級玻璃 主要是因為其何種特性優於其他三種?
(A)介電性質;
(B)抗化性;
(C)高強度;
(D)防燃性。


5(B).

5. 針對高性能基板的材料特性要求而言,下列何者敘述正確?
(A)介電常數(Dk)越大越好;
(B)玻璃轉換溫度(Tg)越大越好;
(C)膨脹係數(CTE) 越大越好;
(D)介質損耗(Df)越大越好。


6(A).

6. 在考慮選擇基材的銅箔厚度時,不會受到下列何項特性因素的影響?
(A)絕緣電阻(Insulation Resistance);
(B)特性阻抗控制(Impedence Control);
(C)電源(Power)線路的最大負載電流;
(D)客戶要求。


7(C).

7. 為了使一般多層電路板使用的環氧樹脂(Epoxy)呈現難燃的效果,特於樹脂的 分子結構中加入何種物質?有此種物質的難燃材料在 NEMA 規範中稱為 FR4。
(A)氟原子;
(B)玻纖布;
(C)溴原子;
(D)矽原子。


8(B).
X


8. 下列膠片(Prepreg)的哪一個規格特性,並非在設計多層板疊構時需要考慮的因 素?
(A)玻纖布種類;
(B)樹脂含量(Resin content);
(C)膠化時間(Gel Time);
(D)壓合 後厚度。


9(B).

9. 在機械鑽孔製程中的品質檢驗,以下何種品質問題必須以破壞性切片的方式 才能檢驗出來?
(A)孔偏;
(B)孔壁粗糙;
(C)毛頭;
(D)孔徑大小錯誤。


10(A).
X


10. 製前工程師在設計多層板疊構時,在選擇使用的膠片(Prepreg)時,較不會受到 下列何項因素的影響?
(A)內層銅箔厚度;
(B)內層殘銅率;
(C)內層線寬間距;
(D)特性阻抗要求。


11(B).

11. 以電路板基板材料的種類來做分類,下列何者並非玻纖布銅箔基板?
(A)G10;
(B)FR-1;
(C)FR-4;
(D)FR-5。


12(D).

12. 下列客戶的何種設計,會影響製前工程師設計電路板生產製作流程的順序?
(A)指定材料型號;
(B)特性阻抗控制;
(C)線寬間距;
(D)盲埋孔。


13(B).
X


13. 多層板的通孔在各內層的互連處,通常指的是什麼位置?
(A)通孔的進口處;
(B)內層孔環的引出處;
(C)內層孔環與孔壁的連接處;
(D)通孔表面的孔環。


14(C).

14. 針對電鍍銅槽液的管理,可以每週進行 2~3 次化學分析,做為調整及控制的 依據,以下何者並非其常用的檢測工具?
(A)循環式電量去除法(CVS);
(B)哈氏槽(Halling Cell);
(C)氧化還原電極電位 法(ORP);
(D)賀氏槽(Hull Cell)。


15(A).

15. 下列何者並非在機械鑽孔製程中使用蓋板(Entry Board)的功用?
(A)保護鑽機之檯面;
(B)幫助定位;
(C)防止壓力腳直接壓傷銅面;
(D)幫助散 熱。


16(C).
X


16. 一般酸性電鍍銅製程,其陽極電流密度相較於陰極電流密度?
(A)大;
(B)小;
(C)相等;
(D)沒有差別。


17(C).
X


17. 製前工程師在設計多層板的疊構時,除非客戶指定疊構,否則其基本原則是兩 銅箔或導體層之間的絕緣介質層至少要有幾張膠片(PP)組成?以防止絕緣不 良或是附著力不好。
(A)一張;
(B)兩張;
(C)三張;
(D)四張。


18(B).

18. 在印刷電路板基材的原料中,樹脂是決定基板是否耐燃的主要原料,而在基材 的耐燃等級當中,下列哪個等級的耐燃(難燃)效果最好?(最不容易燃燒)
(A)UL94 HB;
(B)UL94 V-0;
(C)UL94 V-1;
(D)UL94 V-2。


19(A).
X


19. 近年來在電路板高密度化的趨勢下,線間距細密化,層間薄型化,孔距縮小, 突顯出材料絕緣特性的重要而開始要求以下何種材料特性?
(A)High Tg;
(B)Low Dk;
(C)Low Df;
(D)抗 CAF。


20(A).
X


20. 針對微波高頻的產品應用需求,電路板在選擇基材的基本特性時,下列何者為非?
(A)介質常數(Dk)要小且穩定;
(B)介質損耗(Df)要小;
(C)銅箔的粗糙度(稜線) 要小;
(D)玻璃纖維布的編織密度要小。


21(A).

21. 在機械鑽孔製程中的品質檢驗,製前工程師在板邊設計的試樣(coupon)檢驗 中,無法檢驗出下列何者?
(A)孔偏位;
(B)孔壁品質;
(C)斷針漏孔;
(D)孔徑是否正確。


22(B).
X


22. 針對有阻抗控制設計的電路板,影響其特性阻抗的因素當中,下列敘述何者正 確?
(A)線寬越小特性阻抗值越低;
(B)線路的銅厚越薄特性阻抗值越低;
(C)介質層的厚度越薄特性阻抗值越低;
(D)介質層的介質常數(Dk)越小特性阻抗值越低。


23(B).

23. 有一種品質檢驗方式叫做背光測試,主要是用來檢驗下列何項製程之後的品 質狀態?
(A)鑽孔後;
(B)化學銅後;
(C)全板電鍍銅(一次銅)後;
(D)線路電鍍(二次銅)後。


24(C).

24. 下列何種方式可以將特性阻抗的值變小?
(A)線寬變小;
(B)銅厚變小;
(C)介質層厚度變小;
(D)介質常數變小。


25(B).

25. 在電鍍銅時,待鍍的板子要儘量的相互靠緊,其主要目的是為了什麼?
(A)儘量增加槽液的利用率;
(B)減少高低電位的差異;
(C)增加導電能力;
(D)提高產能效率。


26(D).
X


26. 以下何者不會影響鑽孔程式設計時的鑽針尺寸選擇?
(A)孔的屬性;
(B)成品孔徑規格公差;
(C)鑽孔的位置;
(D)不同的表面處理。


27(C).

27. 下列何者並非在蝕刻製程中所產生的重要效應?
(A)水池效應;
(B)水溝效應;
(C)賈凡尼效應;
(D)過孔效應。


28(C).

28. 印刷電路板的基材所使用的玻璃纖維布,是使用哪一個等級的玻璃製作?
(A)等級 A;
(B)等級 C;
(C)等級 E;
(D)等級 S。


29(C).

29. 傳統化學銅的製程中,下列何項流程能將錫鈀膠體吸附到不導電的孔壁絕緣材料上?
(A)整孔;
(B)微蝕;
(C)活化;
(D)速化。


30(C).

30. 針對高頻產品需求的趨勢,電路板材料就熱膨脹係數的特性而言,應該朝下列 何種方向努力?
(A)越小越好;
(B)越大越好;
(C)越接近銅箔的熱膨脹係數越好;
(D)沒有影響。


31(C).

31. 電路板的很多製程都需要使用機械刷磨,因此刷輪非常重要,下列何者並非針 對刷輪磨耗管理所採取的措施?
(A)放板機採取亂列放板;
(B)刷痕試驗;
(C)破水試驗;
(D)整刷。


32(B).

32. 下列各種電路板的金屬表面處理,理論上以何者的焊錫性最好?
(A)化鎳浸金(ENIG);
(B)噴錫(HASL);
(C)有機保焊劑(OSP);
(D)電鍍鎳金 (Nickel/Gold Plating)。


33(D).

33. 針對一般的多層板,製前工程師在審查完客戶提供的資料後,首先必須完成的 是下列何項程序?
(A)CAM 的編輯作業;
(B)製作流程設計;
(C)工作排版設計;
(D)產品疊構設 計。


34(C).

34. 欲判斷顯影後的板子是否有殘膜(Scum)時,可以使用下列何種藥水做測試?
(A)硫酸銅;
(B)氯化鈉;
(C)氯化銅;
(D)碳酸鈉。


35(D).

35. 在電鍍銅製程中,理論鍍銅重量的多寡可使用下列何項單位進行計算?
(A)電壓高低;
(B)電流密度;
(C)電流強度;
(D)安培小時。


36(C).

36. 乾膜製程必須要在黃色燈光的照明環境下作業,其曝光時所用的光源為何?
(A)黃光;
(B)紅外光;
(C)紫外光;
(D)可見光。


37(B).

37. 製前工程師在設計多層板疊構時,針對壓合所需的填充空間,為了確保填膠足 夠,在選擇膠片(PP)時最重要的規格是?
(A)流動性(Resin Flow);
(B)樹脂含量(Resin Content);
(C)硬化時間(Gel Time);
(D)揮發物含量(Volatile Content)。


38(B).

38. 在機械鑽孔製程中,影響孔壁平坦與否的品質,最重要的是鑽針的哪一部份?
(A)鑽尖角(Point angle);
(B)刃角(Corner);
(C)刃筋(Margin);
(D)退屑槽(Flute)。


39(B).
X


39. 壓合參數的設定不會受到膠片的何項特性所影響?
(A)膠流量(Resin Flow);
(B)玻璃轉換溫度(Tg);
(C)介電常數(Dk);
(D)膠化時 間(Gel Time)。


40(A).

40. 下列何項並非使乾膜蓋孔性變差的原因?
(A)曝光能量偏上限;
(B)貼膜溫度過高;
(C)貼膜壓力過大;
(D)熱壓滾輪溫度 過高。


41(D).

41. 鑽孔參數的設定不會受到板材的何項特性所影響?
(A)玻璃轉換溫度(Tg);
(B)樹脂種類;
(C)纖維種類;
(D)絕緣電阻(Insulation Resistance)。


42(A).

42. 下列何項並非在壓合製程中使用牛皮紙的目的?
(A)防止銅箔皺摺;
(B)受壓均勻;
(C)防止滑動;
(D)均勻傳熱。


43(D).

43. 在垂直電鍍銅槽中所刻意加設的浮動遮板,其設計的主要目的為何?
(A)幫助陽極加快銅的溶解;
(B)幫助陰極加快鍍銅速度;
(C)協助板面往復搖 擺動作;
(D)遮擋陰極高電流處,降低其鍍銅速度。


44(A).
X


44. 下列對於基材的描述,何者並不正確?
(A)Tg 越高代表其熱安定性越好;
(B)緯向的尺寸漲縮通常大於經向;
(C)疊合時膠片的經緯向不一致會造成板彎翹;
(D)內層基板烘烤過度會造成尺寸收縮。


45(D).

45. 在機械鑽孔製程中,墊在電路板下方的下墊板(Back-Up Board),下列哪一個不 是它的功用?
(A)減少銅面的毛頭;
(B)幫助鑽針散熱;
(C)清除鑽針退屑溝中之廢屑;
(D)減 少斷針。


46(D).

46. 鑽針上套環(Drill bit rings)除了可以用不同色環來區分不同的鑽徑之外,另 一個主要的目的為何?
(A)避免鑽偏;
(B)方便儲存;
(C)方便運送;
(D)控制鑽孔的深度。


47(B).
X


47. 化學銅的主要目的為何?
(A)鍍出足夠厚度的孔銅;
(B)鍍出足夠厚度的面銅;
(C)將孔壁表面非導體部 分金屬化;
(D)增加線路的銅厚度。


48(D).

48. 在鹼性蝕刻系統中,其自動添加控制所要補充的藥液為何?
(A)氫氧化銅;
(B)氯化銅;
(C)雙氧水;
(D)氨水。


49(A).
X


49. 在內層板製作的最後一個流程是對位沖孔,其沖孔的目的為何?
(A)作為壓合後檢查對準度使用;
(B)作為壓合後打靶的對位孔;
(C)作為鑽孔 前上 pin 用的孔;
(D)作為疊板時打鉚釘用的孔。


50(A).

50. 近年來由於無鉛製程的要求,開始導入無鉛銲錫使得迴銲溫度也跟著提高,因 而開始要求下列何種材料特性?
(A)High Tg;
(B)Low Dk;
(C)Low Df;
(D)抗 CAF。


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