阿摩:與其讓青史成灰,不如讓青史留名。
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(2 分29 秒)
模式:循序漸進模式
【關鍵字】包含(全口,印模,咬合基底,人工排牙),排除(Rebase,Reline) - 公職◆牙體技術學(三)2024~2010難度:(196~205)
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1(B).

24 有關全口義齒咬合堤(occlusal rim)的製作標準,下列何者錯誤?
(A)上顎前方以門齒乳突(incisive papilla)中央向前約 8~10 mm
(B)上顎咬合堤的最後方部位設定在上顎第二大臼齒部為止
(C)上顎前方與假想咬合平面角度約為 80~85 度
(D)咬合堤的標準寬度前齒部 5 mm,小臼齒部 7 mm,臼齒部 10 mm


2(B).

36 下列有關全口義齒樹脂充填各種聚合法(packing and curing)的敘述,何者錯誤?
(A)微波(microwave)聚合法,利用微波爐以 500W 加熱約 3 分鐘,相當快速,但需要特殊專用的 煮聚盒(flask)及樹脂
(B)流入法(pour, flow method)是使用加熱聚合樹脂所使用的方法
(C)灌入法(injection modeling)對咬合高度幾乎沒有影響,但需要特殊灌入裝置及煮聚盒(flask)
(D)二階段濕式加熱聚合法(compression molding and heat-curing water bath method),最後用 100℃ 加熱 30~60 分鐘的目的為去除殘餘單體(residual monomer)


3(B).
X


112 頁次:8-2 11 全口義齒製作時,牙醫師與牙技師間工作關連先後順序,下列何者最正確?
(A)咬合基底製作 → 咬合取得 → 咬合器裝戴 → 面弓轉移(face-bow transfer)
(B)排牙 → 蠟型義齒試戴 → 重新取得咬合記錄 → 包埋、聚合、研磨
(C)精密印模取得 → 咬合基底製作 → 咬合取得 → 咬合器裝戴
(D)排牙 → 蠟型義齒試戴 → 哥德式弓(Gothic arch)描記裝置的裝戴 → 咬合記錄取得


4(A).

25 全口義齒之平衡咬合行側方運動時,上下顎應接觸之牙齒為:①工作側後牙 ②平衡側後牙 ③ 工作側門牙 ④平衡側門牙
(A)①②③
(B)③④
(C)①④
(D)①③④


5(C).
X


28 下列有關休憩間隙(free-way space)之敘述何者錯誤?
(A)下顎靜止位時,上下牙不互相接觸,其間隙稱之為休憩間隙
(B)在前牙區約為 2-3 毫米
(C)可做為決定全口義齒咬合高度之參考
(D)休憩間隙為最小發音間隙


6(A).

34 全口活動義齒排列時,當下顎後牙區不足以排列 4 顆牙齒,應剔除下列那一顆牙齒最為適當?
(A)第一小臼齒
(B)第二小臼齒
(C)第一大臼齒
(D)第二大臼齒


7(A).
X


4 下列用來抵抗全口義齒脫位的要件中,何者是經由將空氣排除而產生陰壓的方式?
(A)黏著(adhesion)
(B)內聚力(cohesion)
(C)表面張力(surface tension)
(D)邊緣封鎖(border seal)


8(A).
X


27 關於全口義齒煮聚時樹脂聚合方法的敘述,下列何者錯誤?
(A)濕式聚合法中的一階段法是在 75℃的熱水中浸泡 8 小時以上
(B)濕式聚合法中的二階段法是先在 65~70℃的熱水浸泡 60~90 分鐘留置後,再以 100℃加熱 30~60 分鐘的方法
(C)乾式聚合法中的微波聚合法是以利用電子微波爐 750 W 加熱 3 分鐘
(D)濕式聚合法中的熱振動法是在 100℃的沸水中給予 10~15 分鐘的加熱聚合法 代號:3111 頁次:10-4


9(A).

44 當上下顎皆為活動義齒,上顎為遠伸性局部義齒(distal extension RPD) ,而下顎為牙齒支持型局部義 齒(tooth-supported RPD) ,最適當的排列牙齒順序為何?
(A)先排列下顎缺牙,再依下顎咬合面排上顎牙
(B)先排列上顎缺牙,再依上顎咬合面排下顎牙
(C)依小臼齒-大臼齒順序,交替排列上下顎牙
(D)依照印模順序來決定那一邊先排


10(D).

16 關於全口活動義齒包埋之敘述,下列何者錯誤?
(A)在包埋過程中要注意避免倒凹(undercut)或銳角的產生
(B)要儘量使工作模型與包埋盒(flask)交接面的材料平順
(C)人工牙齒的咬合面與包埋盒頂部之間應有 3~6 mm 的距離
(D)第一次包埋的厚度大約到人工牙齒咬合面下 2~3 mm 為止


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HAOOO剛剛做了阿摩測驗,考了60分