公職◆牙體技術學(三)自由測驗(難度:隨機)-阿摩線上測驗

阿摩：只有想不到的事，沒有做不到的事。

16分

(2 分59 秒)

模式:自由測驗
科目:公職◆牙體技術學(三)
難度:隨機

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1(D).

25 全口活動義齒的襯底墊（reline）更換，是指更換下列何者？
(A)中心關係紀錄
(B)人工牙
(C)所有義齒基底材料
(D)部分義齒基底材料

2(C).

7 關於無齒顎的相對關係，下列敘述何者錯誤？
(A)上顎殘嵴弓會變小
(B)下顎殘嵴弓會擴大
(C)人工牙齒咬合排列不受上下顎殘嵴相對關係而有所改變
(D)上下顎殘嵴高度會逐年下降

3(B).

13 全口義齒的後障法（postdam）目的是為了增加：
(A)美觀
(B)咀嚼
(C)吸著力
(D)發音

4(C).

34 活動義齒之終接線（finishing line）是指下列何者？
(A)上顎義齒震動線之最後緣
(B)人工牙齒排列之終止點
(C)下顎義齒臼齒後墊邊緣
(D)樹脂與金屬支架之交界線

5(A).

72 在全口義齒雕蠟成型（wax up）時，蠟刀要與牙齒表面呈幾度角以製造出牙齦邊緣（gingival margin）？
(A) 15 度
(B) 20 度
(C) 30 度
(D) 45 度

6(C).

4 全口活動義齒示意如下圖，R=殘嵴 D=全口活動義齒 A、B、C 分別為咀嚼施力方向，下列何者不會產生轉覆力作用？
(A) ABC
(B)僅 AB
(C)僅 BC
(D)僅 C

7(B).

55 當以藻膠印模時，在注入石膏後多少時間是最佳拆模時機？
(A)25～40 分
(B)45～60 分
(C)70～120 分
(D)隔天

8(　).

38 下列析量（surveying）過程中的主要步驟，依序應為如何？①決定倒凹（undercut）位置 ②決定義齒裝戴途徑（path of insertion） ③畫上析量線（surveying line） ④三點定位（tripoding）
(A)①②④③
(B)②③④①
(C)②④③①
(D)④②①③

9(　).

39 關於金屬床全口義齒使用之合金，下列敘述何者錯誤？
(A)欲加強鈷鉻合金的強度，通常可加入鋁（Al）
(B)欲加強鈷鉻合金鑄造時的流動性，通常可加入錳（Mn）
(C)不可使用貴金屬合金，以免強度不足
(D)用純鈦金屬（CP Ti）製作可提供較佳之生物相容性和抗腐蝕性

10(　).

14 製作全口義齒個人牙托時，關於間隙劑（spacer）的敘述，下列何者錯誤？
(A)厚度因材料使用不同而不同
(B)一定需要，只是厚度需因狀況不同而調整
(C)須遵照醫師指示製作
(D)使用範圍較緩壓（relief）區域大

11(　).

36 金屬床義齒以鈷（cobalt）（nickel）和鎳為基底的合金中含有下列那一項元素來避免腐蝕，（corrosion）？
(A)碳（carbon）
(B)鉻（chromium）
(C)鉬（molybdenum）
(D)鈹（beryllium）

12(　).

35 自動磨修完成後，食物可能不容易從咬合面流出，須進行人工牙齒型態修正時，建議中央溝深度約為：
(A)0.5 mm
(B)1.5 mm
(C)2.5 mm
(D)3.5 mm

13(　).

78 活動局部義齒完成盒埋（flasking），於進行去蠟過程中，應先將包埋盒（flask）置於沸水中作用多少時間最為適宜？
(A)20 分鐘
(B)15 分鐘
(C)10 分鐘
(D)5 分鐘

14(　).

13 全口義齒工作模型使用之超硬石膏，其混水比例（w/p ratio）比其他石膏低，理由為何？
(A)結晶形狀不同
(B)結晶水較多
(C)結晶顏色不同
(D)含水量較低

15(　).

5 關於全口義齒患者發音敘述，下列何者最正確？
(A)當上顎前牙太短時，f 音會像 v 音
(B)當上顎前牙太長時，f 音會像 v 音
(C)當下顎前牙太短時，f 音會像 v 音
(D)當下顎前牙太長時，f 音會像 v 音

16(　).

46 有關可撤式局部義齒清潔之敘述，下列何者正確？①以機械性清潔為主，化學清潔為輔 ②若含鉻金屬的義齒支架，不要使用次氯化物（hypochlorites）的清潔劑 ③使用超音波清潔器（ultrasonic cleaner）清潔需與化學藥劑一起使用 ④建議患者可以戴著義齒以牙刷於口內模擬刷牙來清潔義齒 ⑤使用超音波清潔器（ultrasonic cleaner）清潔可取代牙刷刷洗法
(A)①③⑤
(B)①②③
(C)②④⑤
(D)①②⑤

17(　).

43 關於活動局部義齒主連接體（major connector）之敘述，下列何者正確？①主連接體的首要條件為提供垂直的支持與保護牙齦 ②在上顎牙弓，主連接體邊緣應離游離牙齦最少 6 mm ③上顎主連接體的前緣應終止於突出皺褶的後緣，以增加患者的舒適感 ④若需要橫跨牙齦邊緣時，應與邊緣呈現45 度傾斜角度型式，以降低對組織的刺激 ⑤主連接體應呈 90 度直角的外形設計，以避免結構的疲乏與斷裂的可能
(A) ①⑤
(B) ③④
(C) ②③
(D)②④

18(　).

11 關於全口活動義齒印模後，製作圍盒的敘述，下列何者錯誤？
(A)工作模型印模時，能完整記錄邊緣溝（sulcus）的深度與寬度
(B)圍蠟（beading）時，圍盒牆面高 10～15 mm
(C)工作模型印模的最後緣處，條蠟的高度必須能支撐圍盒的垂直牆面
(D)圍蠟（beading）時，條蠟應置放在凸緣（flange）邊緣下方約 2～3 mm 處

19(　).

77 活動局部義齒之內外終接線（finishing line），須互相錯開之主要原因為何？
(A)避免影響美觀
(B)避免影響金屬之強度
(C)避免影響人工牙之排列
(D)避免影響樹脂強度

20(　).

33 活動局部義齒（RPD）的置入途徑，會將工作模型上殘留齒與殘嵴的倒凹（undercut）區域進行封凹（blockout），關於封凹的敘述，下列何者正確？
(A)封凹時，要先在工作模型上鋪陳一層石蠟，作為封凹的空隙
(B)在與 RPD 牙架設計無關的部分進行平行封凹（parallel blockout）
(C)若上顎之設計為旋轉置入（rotational path）RPD 時，需要進行旋轉式封凹
(D)與置入途徑平行一致的封凹方式稱為隨意封凹（arbitrary blockout）

21(　).

65 製作活動局部義齒時，當使用診斷用石膏模型來析量與設計，為了尋找石膏模型的最適合傾斜度，下列何者不是必須考量的因素？
(A)獲得合適的固位性倒凹
(B)建立適當的支柱牙輪廓外形
(C)得到理想上的美觀
(D)減少硬組織與軟組織的干擾

22(　).

38 製作活動義齒時，將模型置於析量器（surveyor）上進行析量時，所產生之倒凹區（undercut area）具有下列何種性質？
(A)倒凹深度（depth）會改變，但倒凹區不會改變
(B)倒凹深度和倒凹區均會改變
(C)倒凹區會改變，但倒凹深度不會改變
(D)倒凹深度和倒凹區均不會改變

23(　).

77 製作下顎活動局部義齒時，下列那一個區域最常需要進行緩壓（relief）處理？
(A)正中顎縫線
(B)主連接體之下緣
(C)軟硬腭交接處
(D)支柱牙的倒凹區

24(　).

43 游離端可撤式局部義齒使用 RPI 設計，當義齒游離端受力時，支柱牙及牙鈎所受的影響，下列何者最正確？
(A)支柱牙會向遠心側傾斜，鈎尖移向析量線
(B)支柱牙會向遠心側傾斜，鈎尖離開析量線
(C)支柱牙會向近心側傾斜，鈎尖向上移動
(D)支柱牙會向近心側傾斜，鈎尖離開支柱牙

25(　).

77 下列何種印模術應用在下顎遠伸性局部缺牙印模時，最有可能使缺牙區前的遠端支柱牙（distal abutment）在咀嚼時受到最大扭矩（torque）？
(A)功能性印模術（functional impression）
(B)動態印模術（dynamic impression）
(C)解剖型印模術（anatomic form impression）
(D)擇壓印模術（selective pressure impression）