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試題詳解

試卷：114年 - 03002 化學─無機物檢驗 甲級 工作項目 03：無機儀器分析 151-219（2025/10/21 更新）#132511 | 科目：技檢◆化學-無機物檢驗-甲級

試卷資訊

試卷名稱：114年 - 03002 化學─無機物檢驗 甲級 工作項目 03：無機儀器分析 151-219（2025/10/21 更新）#132511

年份：114年

科目：技檢◆化學-無機物檢驗-甲級

複選題
199. 哪些方法通常可以有效降低 AA 光譜儀的化學干擾？
(A)在溶液中加入釋放劑
(B)在溶液中加入一個輻射緩衝溶液
(C)在溶液中加入一個解離抑制劑
(D)使用 Zeeman 效應的儀器 。

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詳解 (共 1 筆)

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未解鎖
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