100. 半導體製程中常需用到高純度化學品,以供洗淨、蝕刻、濺鍍、熱氧化、離子注入等程序之用,下列何種化學品可被用於蝕刻的製程上
(A)NH4OH
(B)H2O2
(C)AsF5
(D)HF 。

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