試題詳解

試卷：114年 - 12300 化工乙級工作項目 03：工業化學 51-100（2025/12/16 更新）#135073 | 科目：技檢◆化工-乙級

試卷名稱：114年 - 12300 化工乙級工作項目 03：工業化學 51-100（2025/12/16 更新）#135073

年份：114年

科目：技檢◆化工-乙級

100. 半導體製程中常需用到高純度化學品，以供洗淨、蝕刻、濺鍍、熱氧化、離子注入等程序之用，下列何種化學品可被用於蝕刻的製程上
(A)NH₄OH
(B)H₂O₂
(C)AsF₅
(D)HF 。

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