試題詳解

試卷：103年 - 103-2 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）(重覆)#64077 | 科目：公職◆牙體技術學(三)

試卷名稱：103年 - 103-2 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）(重覆)#64077

年份：103年

科目：公職◆牙體技術學(三)

11 下列那一處在全口義齒印模時，最不需要緩壓（relief）？
(A)上顎的皺摺區（rugae area）
(B)上顎的正中腭縫（median palatine suture）
(C)下顎的齒槽骨嵴（alveolar ridge）
(D)下顎的臼齒後墊（retromolar pad）

正確答案：登入後查看

B1 · 2025/06/25

推薦的詳解#6503677

未解鎖

上顎下顎初級 ...

(共 299 字，隱藏中）

前往觀看