15. 下列有關微影製程之敘述，何者不正確？
(A)必須先製作光罩
(B)以刷子在晶圓上塗佈光阻劑
(C)光阻液要再經過烘烤除去光組 液內之溶劑
(D)以紫外線曝光。

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統計： A(3), B(15), C(7), D(8), E(0) #1587444

詳解 (共 1 筆)

#2780330
晶圓放在塗佈機上，滴一滴光阻液，塗佈機以...
(共 75 字，隱藏中）
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