49. 下列有關微影製程之敘述何者不正確？
(A)必須先製作光罩
(B)以刷子在晶圓上塗佈光阻劑
(C) 氰光阻液要再經過烘烤除去光組液內之溶劑
(D)以紫外線 曝光

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統計： A(11), B(104), C(23), D(28), E(0) #3094105

詳解 (共 2 筆)

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