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試題詳解

試卷：112年 - 112 臺灣港務股份有限公司_新進從業人員甄試_員級_機械：機械製造學概要#113982 | 科目：港務局◆機械製造學概要

試卷資訊

試卷名稱：112年 - 112 臺灣港務股份有限公司_新進從業人員甄試_員級_機械：機械製造學概要#113982

年份：112年

科目：港務局◆機械製造學概要

49. 下列有關微影製程之敘述何者不正確？
(A)必須先製作光罩
(B)以刷子在晶圓上塗佈光阻劑
(C) 氰光阻液要再經過烘烤除去光組液內之溶劑
(D)以紫外線 曝光
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詳解 (共 2 筆)

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