試題詳解

試卷：101年 - 101-1 相當專技高考_牙體技術師：牙體技術學(三)（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#24371 | 科目：公職◆牙體技術學(三)

試卷資訊

試卷名稱：101年 - 101-1 相當專技高考_牙體技術師：牙體技術學(三)（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#24371

年份：101年

科目：公職◆牙體技術學(三)

30 在製作全口義齒咬合蠟堤進行咬合取得時，下列敘述何者不是製作蠟堤的原則？
(A)蠟堤的形狀與位置應儘量模擬未來義齒排列的狀態
(B)下顎蠟堤的高度一般與臼齒後墊（retromolar pad）的頂點等高
(C)上顎蠟堤不宜太長，一般設定停在上顎第一大臼齒部為止
(D)蠟堤的高度可能會依殘嵴的吸收程度而改變

正確答案：登入後查看