試卷名稱：113年 - 113 四技二專統測_工程與管理類_專業科目(一)：物理(B)#123735
年份：113年
科目：統測◆08工程與管理類◆(一)基礎物理、基礎化學
31. 將雷射光紅光( 650奈米)、綠光( 532奈米)、藍光( 460奈米)在相同擺設條件下(相同的雙狹縫與紙屏距離、相同的雙狹縫間距等 )，分別垂直射向雙狹縫干涉實驗裝置，所得到的干涉亮紋間距何者最小？(A) 使用藍色雷射光作為光源 (B) 使用綠色雷射光作為光源(C) 使用紅色雷射光作為光源 (D) 三種色光亮紋距離相同
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