36 下列關於微影製程之敘述何者不正確？ (A) 必須先設計製作光罩 (B) 須使用刷子將光阻劑均勻塗佈在晶圓上 (C) 曝光前，光阻須要經過烘烤，以去除光阻液中的溶劑 (D) 通常使用紫外線進行曝光