38 半導體工業中常用於清潔矽晶片的氫氟酸 HF 具有高度腐蝕性,若直接接觸會通過皮膚被吸收到血液中,下 列相關敘述何者錯誤?
(A)HF 化學燒傷可以用水洗和 2.5%葡萄糖酸鈣凝膠進行治療
(B)當 HF 在水中解離,會產生兩種離子
(C)HF 是弱酸,微溶於水中
(D)避免含矽的吸收材料與 HF 反應,產生四氟化矽的有毒和腐蝕性氣體

答案:登入後查看
統計: A(167), B(177), C(657), D(164), E(0) #858393

詳解 (共 2 筆)

#1279501

(C)HF 是弱酸,溶於水中 

29
1
#4027725
因為H-F⋯H 擁有氫鍵的關係
(共 17 字,隱藏中)
前往觀看
1
0