38 半導體工業中常用於清潔矽晶片的氫氟酸 HF 具有高度腐蝕性,若直接接觸會通過皮膚被吸收到血液中,下
列相關敘述何者錯誤?
(A)HF 化學燒傷可以用水洗和 2.5%葡萄糖酸鈣凝膠進行治療
(B)當 HF 在水中解離,會產生兩種離子
(C)HF 是弱酸,微溶於水中
(D)避免含矽的吸收材料與 HF 反應,產生四氟化矽的有毒和腐蝕性氣體
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統計: A(167), B(177), C(657), D(164), E(0) #858393
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