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38 半導體工業中常用於清潔矽晶片的氫氟酸 HF 具有高度腐蝕性,若直接接觸會通過皮膚被吸收到血液中,下 列相關敘述何者錯誤?
(A)HF 化學燒傷可以用水洗和 2.5%葡萄糖酸鈣凝膠進行治療
(B)當 HF 在水中解離,會產生兩種離子
(C)HF 是弱酸,微溶於水中
(D)避免含矽的吸收材料與 HF 反應,產生四氟化矽的有毒和腐蝕性氣體
警專◆化學
-
104 年 - 104 一般警察特種考試_四等_消防警察人員:普通物理學概要與普通化學概要#22547
答案:
C
難度:
適中
0.529
討論
私人筆記( 0 )
最佳解!
LLL
國三下 (2016/03/08)
(C)HF 是弱.....
看完整詳解
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2F
消消消
高三下 (2020/06/02)
因為H-F⋯H 擁有氫鍵的關係
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38 半導體工業中常用於清潔矽晶片的氫氟酸 HF 具有高度腐蝕性,若直接接觸會通..-阿摩線上測驗