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試題詳解

試卷：109年 - 109 鐵路特種考試_佐級_機械工程：機械製造學大意#87195 | 科目：機械製造學

試卷資訊

試卷名稱：109年 - 109 鐵路特種考試_佐級_機械工程：機械製造學大意#87195

年份：109年

科目：機械製造學

40 有關半導體積體電路（IC）製程敘述，下列何者錯誤？
(A)光微影（Lithography）是將線路縮小的關鍵製程
(B)光阻（Photoresist, PR）有負光阻和正光阻
(C)濕蝕刻（Wet etching）是選擇性的移除不要的材料
(D)封裝（Packaging）是用金屬材料將 IC 線路固定在導線架（Leadframe）上
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