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試題詳解

試卷:107年 - 107-2 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#71152 | 科目:公職◆牙體技術學(三)

試卷資訊

試卷名稱:107年 - 107-2 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#71152

年份:107年

科目:公職◆牙體技術學(三)

40 對於可撤式局部義齒金屬支架(framework)製作之敘述,下列何者正確?
(A)為防止在封凹處理(blockout)時造成工作模型的損傷,可塗布一層表面封填劑薄膜於模型表面
(B)在上顎製作過程中,須先完成封凹處理後,再進行珠狀緣飾(beading)處理
(C)封凹蠟應放置於高隆線近咬合面或切緣區域,才能製作出貼合度佳的支架
(D)干擾金屬支架置入模型定位的區域,須以任意式封凹處理(arbitrary blockout)予以消除
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未解鎖
(B)先做beading再封凹(C)封凹...
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