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試題詳解

試卷：113年 - 113 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#121780 | 科目：公職◆牙體技術學(三)

試卷資訊

試卷名稱：113年 - 113 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#121780

年份：113年

科目：公職◆牙體技術學(三)

41 活動局部義齒蠟型包埋共分為四層，進行第二層包埋後，其表面最凸出緣與包埋盒頂端之間，至少須有多少 mm 的間隙？
(A)5
(B)7
(C) 10
(D) 15
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詳解 (共 1 筆)

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