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統測◆08工程與管理類◆(一)基礎物理、基礎化學
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112年 - 112 四技二專統測_工程與管理類_專業科目(一): 物理(B)#114424
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試題詳解
試卷:
112年 - 112 四技二專統測_工程與管理類_專業科目(一): 物理(B)#114424 |
科目:
統測◆08工程與管理類◆(一)基礎物理、基礎化學
試卷資訊
試卷名稱:
112年 - 112 四技二專統測_工程與管理類_專業科目(一): 物理(B)#114424
年份:
112年
科目:
統測◆08工程與管理類◆(一)基礎物理、基礎化學
50. 雷射是「透過受激輻射產生的光放大」的縮寫,此技術常用於各種領域中。下列對於雷射技術的敘述何者正確?
(A) 是優質的單色光源,同調性高,所以可用於光通訊技術中
(B) 不易發生光的繞射或干涉現象,故可用於光碟等光學記錄技術
(C) 光強度可以很集中,一般不可用眼睛直視,故不適合用於眼科的治療
(D) 於日光燈照明之教室中,可以看見簡報筆之雷射光點,是因為雷射的功率高於日光燈所致
正確答案:
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詳解 (共 1 筆)
MoAI - 您的AI助手
B1 · 2025/11/12
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