63.以電子射束治療眼瞼（eyelid）病灶時，如何減少置放於眼球內的鉛遮擋塊（internal eye shield）所引起的 電子回散射劑量？
(A)縮小治療照野
(B)增加鉛的厚度
(C)於電子錐筒處（electron cone）外加鉛遮擋塊
(D)在鉛外緣包覆一層低原子序物質（例如鋁）

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統計： A(47), B(10), C(183), D(640), E(0) #1058318

詳解 (共 3 筆)

#4712298
低原子序物質與電子作用的質量阻擋本領大於...
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#3459300

體內屏蔽（Internal  shield）:

1.治療唇n頰黏膜 眼瞼照射,需要體內屏蔽

2.由於屏蔽與組織接觸的表面會產生電子回散射(Back scattering),所以介面位置的劑量上升

3.4MeV電子束回散射量達70%,高能電子束則降到30%

4.1~25MeV電子回散射射程1~2g/cm2

5.為消除回散射現象,可在組織與屏蔽的介面加一層低原子序的吸收體,如bolus或鋁片

 

 

電子射束的鉛擋塊

＊ 電子射束的照野造形(field shaping)可以在電子照射筒(electron cone)或電子照射器(electronnapplicator)的末端添加厚度1-2 cm或1.5-2 cm的非發散式鉛合金擋塊，也可以在病人的皮膚表面置放塗臘的鉛屏蔽，以降低鉛所產生的散射電子劑量，置放電子射束的非發散式鉛合金擋塊時，必須注意病人照射體位細微移動或轉動的改變情形，以避免受照射的靶體積發生偏移現象


 

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#3393619
10mm厚度可降低10％backscat...
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