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公職◆牙體技術學(三)
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99年 - 99 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#24380
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試題詳解
試卷:
99年 - 99 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#24380 |
科目:
公職◆牙體技術學(三)
試卷資訊
試卷名稱:
99年 - 99 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#24380
年份:
99年
科目:
公職◆牙體技術學(三)
66 製作下顎個人印模牙托(individual tray)時,那個部位可以不需要緩壓(relief)?
(A)前牙殘餘牙嵴(anterior residual ridge)
(B)後牙殘餘牙嵴(posterior residual ridge)
(C)兩側頰棚(buccal shelf)
(D)兩側隆凸(torus)
正確答案:
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